A科技帝国从高分子材料开始SML的EUV光刻机但是 成了7nm下面制程的关键在于了，三科技帝国从高分子材料开始星、台积电、Intel必须 选择购买单价高达10亿元的EUV光刻机用于生产。当然科技帝国从高分子材料开始CPU当然，内存工艺可能会逐步导入EUV光刻机，三星后的SK海力士必须 如此做。
据韩国媒体媒体报道，亚太地区第二大DRAM内存供应商SK海力士但是 在研发1a nm工艺的内存，内部代号“南极星”，具体说明节点只有 在15nm，预计今年会引入EUV光刻机生产。
对内存但是 ，它跟CPU逻辑工艺像是面临着也若是 微缩的若是 若是 解决 ，EUV光刻机也若是 以可减少多重曝光工艺，可以提供工艺精度，因而也若是 以可减少生产时间不、整体提高成本，并整体提高性能。
但是 内存使用时EUV工艺若是 若是 解决 就了不，首要若是 若是 解决 但是 EUV光刻机售价太高，10亿一台，若是 考量到维护费用，但是 初期要承担不小的成本各种压力。
目前为止SK海力士最先进的内存工艺主要主要原因是1y、1z nm，十月份 十月份 这两种工艺将占到40%的产能比重。
3月初，三星认为 ，将从第四代10nm级（D1a）DRAM或高端级14nm级DRAM后的全面导入EUV，十月份 基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片，预计今年会使12英寸晶圆的生产率翻番。